MAGNETRON SPUTTERING OPTICAL COATING MACHINE 磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)
旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到最大的利用空間；全自動(dòng)一體的提拉升降的轉(zhuǎn)架裝置，大幅度減少機(jī)器開關(guān)門時(shí)間，大大提高了生產(chǎn)效率與工藝穩(wěn)定性；匯成專利離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點(diǎn)。
可利用時(shí)間精準(zhǔn)控制薄膜厚度，達(dá)到設(shè)計(jì)工藝要求，節(jié)省晶控，光控環(huán)節(jié)，為客戶省去大量的膜厚儀耗材；可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能；低溫成膜，可應(yīng)對(duì)各種用途；自動(dòng)調(diào)節(jié)氣體流量專利裝置，保持穩(wěn)定的靶電壓，保證成膜品質(zhì)；可選“校正板外部調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)”。
濺射沉積系統(tǒng)在側(cè)壁上裝有多個(gè)圓柱形靶材，以提高沉積速率和多層涂層，該系統(tǒng)配備有直流脈沖或射頻功率圓形陰極，垂直安裝的基板和圓柱形陰極可最大程度地減少涂層過(guò)程中的顆粒污染。
AR 膜（基材玻璃透過(guò)率＞91.5%）：
■ 420-680nm波段，單面平均透過(guò)率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■ 雙面平均透過(guò)率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；
顏色膜或漸變色膜：
■ 以客戶樣板為準(zhǔn)，連續(xù)五爐隨機(jī)位置裝片或滿爐，顏色色差ΔE<1.2；
■ 水煮測(cè)試：水煮 80℃30min，3M 百格測(cè)試（1*1mm）后大于 4B。
優(yōu)勢(shì)：
?濺射AR / AF涂層
?LIS清洗基材
?高密度/均勻度
?高沉積速率
?工藝穩(wěn)定性
?易于更換靶材
