High precision multicavity magnetron sputtering optical coating machine 高精密多腔磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)
具備RF-ICP/CCP輔助磁控濺射后氧化模式，具有高沉積速率且光學(xué)性能匹配的特點(diǎn)。適用于車(chē)載蓋板玻璃和3C產(chǎn)品前蓋玻璃沉積AR膜，其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系，也可為硬質(zhì)SiO2+Si3N4膜系。同時(shí)也適用于3C產(chǎn)品后蓋顏色膜（含漸變色膜）、NCVM膜的加工。
旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到最大的利用空間；全自動(dòng)一體的提拉升降的轉(zhuǎn)架裝置，大幅度減少機(jī)器開(kāi)關(guān)門(mén)時(shí)間，大大提高了生產(chǎn)效率與工藝穩(wěn)定性；匯成專(zhuān)利離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點(diǎn)。
可利用時(shí)間精準(zhǔn)控制薄膜厚度，達(dá)到設(shè)計(jì)工藝要求，節(jié)省晶控，光控環(huán)節(jié)，為客戶省去大量的膜厚儀耗材；可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能；低溫成膜，可應(yīng)對(duì)各種用途；自動(dòng)調(diào)節(jié)氣體流量專(zhuān)利裝置，保持穩(wěn)定的靶電壓，保證成膜品質(zhì)；可選“校正板外部調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)”。
優(yōu)勢(shì)：
?出色的均勻性
?可實(shí)現(xiàn)不同的材料或提高產(chǎn)量
?集成式等離子體源，可提高涂層質(zhì)量并進(jìn)行基板預(yù)清潔
?快速更換不同尺寸基板的工具
?高目標(biāo)利用率，不影響涂層規(guī)格
?簡(jiǎn)單的目標(biāo)交換和易于訪問(wèn)的系統(tǒng)維護(hù)
